PECVD检漏
发布:2020-03-30 16:36,更新:2010-01-01 00:00
PECVD技术是借助微波或射频等使含有薄膜成分原子的气体电离,在局部形成等离子体,而等离子体化学活性很强,很容易发生反应,在基片上沉积出所期望的薄膜。为了使化学反应能在较低的温度下进行,利用了等离子体的活性来促进反应。其优点是基本温度低;沉积速率快;成膜质量好,针孔较少,不易龟裂。
在PECVD工艺中由于等离子体中高速运动的电子撞击到中性的反应气体分子,就会使中性反应气体分子变成碎片或处于激活的状态容易发生反应。因此PECVD设备对反应腔室及管道的泄漏要求很高,必须要应用氦质谱检漏仪来查找漏点。
歌博科技A500干泵氦质谱检漏仪查漏时,都是将检漏仪接到设备的检漏预留口,由近及远的对怀疑的漏点逐处喷氦,直到查到所有漏点为止。
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